Ondo Beauty 36.5 Hyaluronic Acid & Algae Moisture Boosting Mask Chok-Chok 25g
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Ondo Beauty 36.5 Ácido Hialurônico e Máscara de Algas Hidratante Chok-Chok 25g
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  • Ondo Beauty 36.5 Ácido Hialurônico e Máscara de Algas Hidratante Chok-Chok 25g
  • Hyaluronic Acid & Algae Moisture Boosting Mask Chok-Chok 25g 【ENVIO 24 horas】
Ondo Beauty 36.5

Ondo Beauty 36.5 Hyaluronic Acid & Algae Moisture Boosting Mask Chok-Chok 25g

Mascarilla de tejido biodegradable con un 88% de agua de hamamelis, complejo de 8 plantas marinas y niacinamida que ayuda a rellenar e hidratar profundamente la piel.

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Hyaluronic Acid & Algae Moisture Boosting Mask Chok-Chok 25g

"Chok-Chok" es una palabra coreana popular que describe una piel radiante y muy hidratada.

Esta mascarilla de tejido biodegradable es ideal para aquellas personas con piel deshidratada que desean resaltar la luminosidad y conseguir el efecto coreano de piel de vidrio.

La mascarilla estimulante de ácido hialurónico y algas contiene un 88% de agua de hamamelis, el principal ingrediente activo para calmar la piel, limpiar y minimizar los poros dilatados.

El Complejo de Plantas Marinas con 7 tipos de extractos de algas y Narciso Marino (planta marina), enriquece la piel con nutrientes vitales.

La niacinamida, un derivado de la vitamina B3, calma, ilumina la piel y previene la aparición de manchas oscuras.

El Aquaxyl ayuda a optimizar el flujo de hidratación de la piel, controla la circulación y las reservas de agua, proporcionando una acción de “escudo anti-deshidratación” con efectos visibles en 8 horas.

Modo de Uso deHyaluronic Acid & Algae Moisture Boosting Mask Chok-Chok 25g

Aplicar sobre el rostro limpio y retirar tras 10-15 minutos.

Una vez retirado, masajea el sérum restante sobre la piel hasta que se absorba por completo.

No enjuagar.

La mascarilla Chok Chok se puede utilizar para preparar la piel para el maquillaje, ya que ayuda a mejorar la textura de la piel.

Ingredientes:

88% Witch Hazel Water, 8 Marine Plants Complex, 0.1% Hyaluronic Acid.

ONMOMA